What are you looking for?

01

失效分析

首页>服务项目>剖面/晶背研磨 (Cross-section/Backside)

剖面/晶背研磨 (Cross-section/Backside)

快速的样品制备方式之一,利用砂纸或钻石砂纸,搭配研磨头作局部研磨(Polishing),加上后续的抛光,可处理出清晰的样品表面。

CHINAiSTI 苏试宜特能为您做什么?

苏试宜特不仅可以提供一般剖面研磨(Cross-section),也提供样品从背面进行研磨(晶背研磨,Backside Polishing),将基材磨至特定的厚度后再进行抛光。剖面、断面研磨与晶背研磨(Backside Polishing),都是为了可以衔接后续的分析检测。


研磨(Polishing)基本流程

  • 切割:利用切割机裁将样品裁切成适当尺寸

  • 冷埋:利用混合胶填满样品隙缝,增强样品之结构强度,避免受研磨应力而造样品毁损

  • 研磨:样品以不同粗细之砂纸 (或钻石砂纸),进行研磨

  • 抛光:于绒布转盘上加入适当的抛光液,进行抛光以消除研磨所残留的细微刮痕

苏试宜特服务优势

1
领先市场的多层芯片堆栈取汲技术:3D 芯片制程 取样
2
成功率高
3
交期快速

案例分享

  • 晶背研磨(Backside Polishing)
  • 剖面研磨 (Cross-section)
  • 一般芯片 晶背研磨

  • COB封装形式晶背研磨

  • 晶背研磨后, OBIRCH分析影像

  • Package样品剖面研磨

  • MOSFET剖面研磨

  • 铜制程剖面研磨

  • 应用范围
芯片之产品,如覆晶封装( Flip Chip)、铝/铜制程结构、C-MOS Image Sensor
PCB/PCBA等各种板材或成品
LED成品
联络窗口

中国免费咨询电话 : 800-988-0501    Email: marketing_cn@chinaisti.com


留言咨询

请提出您的需求或问题,我们收到后会尽快给到您回复